TFT阵列段生产流程-7英寸TFT-专业定制LCD-华之晶厂家
May 29,2020

一、主要工艺流程和工艺制程

(一)工艺流程(二)工艺制程:1、成膜:PVD、CVD 2、光刻:涂胶、图形曝光、显影3、刻蚀:湿刻、干刻 4、脱膜

二、辅助工艺制程 7英寸TFT厂家

1、清洗 2、打标及边缘曝光 3、AOI 4、Mic、Mac 观测 5、成膜性能检测(RS meter、Profile、RE/SE/FTIR) 6、O/S 电测 7、TEG 电测 8、阵列电测 9、激光修补

三、返工工艺流程 7英寸TFT厂家

1、PR 返工2、Film 返工

四、阵列段完整工艺流程 7英寸TFT厂家

五、设备维护及工艺状态监控工艺流程

1、Dummy Glass 的用途2、Dummy Glass 的流程

第二节 制盒段流程 7英寸TFT厂家

1、取向及PI 返工流程2、制盒及Spacer Spray 返工流程切割、电测、磨边3、贴偏光片及脱泡、返工

第三节 模块段流程

1、激光切线、电测2、COG 邦定、FPC 邦定、电测装配、电测3、加电老化包装出货


TFT 显示器的生产可以分成四个工序段:CF、TFT、Cell、Module。其相互关系见下图:



阵列段是从投入白玻璃基板,到基板上电气电路制作完成。具体见下图:


CF 工序是从投入白玻璃基板,到黑矩阵、三基色及ITO 制作完成。具体见下图:


Cell 工序是从将TFT 基板和 CF 基板作定向处理后对贴成盒,到切割成单粒后贴上片光片。具体见下图:


Module 工序是从 LCD 屏开始到驱动电路制作完成,形成一个显示模块。具体示意图如下:


在以下的各节中,我们将逐一介绍TFT、Cell、Module 的工艺制程


第一节 阵列段流程


一、主要工艺流程和工艺制程

(一)工艺流程7英寸TFT厂家

采用背沟道刻蚀型(BCE)TFT 显示象素的结构。具体结构见下图:


对背沟道刻蚀型TFT 结构的阵列面板,根据需要制作的膜层的先后顺序和各层膜间的相互关系,其主要工艺流程可以分为 5 个步骤(5 次光照)

第一步:栅极(Gate)及扫描线形成


具体包括:Gate 层金属溅射成膜,Gate 光刻,Gate 湿刻等工艺制程(各工艺制程的具体介绍在随后的章节中给出)。经过这些工艺,最终在玻璃基板上形成扫描线和栅电极,即Gate 电极。工艺完成后得到的图形见下图:


第二步:栅极绝缘层及非晶硅小岛(Island)形成


具体包括:PECVD 三层连续成膜,小岛光刻,小岛干刻等工艺制程(各工艺制程的具体介绍在随后的章节中给出)。经过这些工艺,最终在玻璃基板上形成TFT 用非晶硅小岛。工艺完成后得到的图形见下图:


第三步:源、漏电极(S/D)、数据电极和沟道(Channel)形成 7英寸TFT厂家

具体包括:S/D 金属层溅射成膜,S/D 光刻,S/D 湿刻,沟道干刻等工艺制程(各工艺制程的具体介绍在随后的章节中给出)。经过这些工艺,最终在玻璃基板上形成TFT 的源、漏电极、沟道及数据线。到此,TFT 已制作完成。工艺完成后得到的图形见下图:



第四步:保护绝缘层(Passivition)及过孔(Via)形成 7英寸TFT厂家

具体包括:PECVD 成膜,光刻,过孔干刻等工艺制程(各工艺制程的具体介绍在随后的章节中给出)。经过这些工艺,最终在玻璃基板上形成 TFT 沟道保护绝缘层及导通过孔。工艺完成后得到的图形见下图:


第五步:透明象素电极ITO 的形成

具体包括:ITO 透明电极层的溅射成膜,ITO 光刻,ITO 湿刻等工艺制程 7英寸TFT厂家

(各工艺制程的具体介绍在随后的章节中给出)。经过这些工艺,最终在玻璃基板上形成透明象素电极。至此,整个阵列工序制作完成。工艺完成后得到的图形见下图:


至此,整个阵列工序制作完成。简单来说 5 次光照的阵列工序就是:5 次成膜+5 次刻蚀。




7英寸TFT厂家,专业定制TFT-LCD,华之晶TFT-LCD,TFT-LCD厂家,TFT生产流程



我们为您工作

自由咨询
如果您有任何疑问或建议,请给我们留言,我们将尽快回复您!
标准或自定义 lcd 显示模块,什么更适合您的项目?

联系人:尹小姐 :

欢迎光临华之晶
如果您有任何疑问或建议,请给我们留言,我们将尽快回复您!

首页

产品

关于

联系